Avfallsförbränningsanläggningar
|
| Opsis in situ-system är utvecklade för att följa de nya EU-direktiven angående mätningar av emissioner och processkontroll i avfallsförbränningsanläggningar. |
| |
Gaskomponenter
|
- - Väteklorid (HCl)
- - Vätefluorid (HF)
- - Kväveoxid (NO)
- - Kvävedioxid (NO2)
- - Svaveldioxid (SO2)
- - Koloxid (CO)
- - Koldioxid (CO2)
- - Ammoniak (NH3)
- - Vatten (H2O)
- - Kvicksilver (Hg)
- - Temperatur
- - Syre (O2)
- - THC/VOC
- - Lista över gaskomponenter
|
| |
Varför Opsis?
|
- - In situ-mätning med hög prestanda
- - Mätning av flera gaser över flera sträckor samtidigt är möjlig
- - Påverkas inte av höga temperaturer eller höga koncentrationer av stoft
- - Klarar korrosiva miljöer
- - Kombinerar fördelarna med UV-, IR- och TDL-teknologierna
- - Låga detektionsgränser
- - Snabba svarstider
- - Behöver endast ett minimum av underhåll
- - Enkel att kalibrera
- - Service utförs av ett välutbildat nätverk
- - Internationellt godkända system
- - Systemen godkända av bland annat tyska TÜV
|
Mjukvara
|
| Opsis erbjuder totallösningar med systempaket för databehandling, som inkluderar datainsamling, utvärdering och rapportering. Mjukvaran följer EU-direktiven för rapportering. Se vidare EnviMan datahanteringssystem. |
| |
Godkännanden
|
| Opsis mätsystem har godkänts av flera internationella institut, bland andra tyska TÜV och amerikanska EPA Fler godkännanden >> |
| |
Mer information
|
| Kontakta Opsis för att få det senaste informationsmaterialet inklusive referenser och nya EU-direktivet för avfallsförbränningsanläggningar. |
| |
| |