Avfallsförbränningsanläggningar
|
| Opsis in situ-system är utvecklade för att följa de nya EU-direktiven angående mätningar av emissioner och processkontroll i avfallsförbränningsanläggningar. |
| |
Gaskomponenter
|
- Väteklorid (HCl)
- Vätefluorid (HF)
- Kväveoxid (NO)
- Kvävedioxid (NO2)
- Svaveldioxid (SO2)
- Koloxid (CO)
- Koldioxid (CO2)
- Ammoniak (NH3)
- Vatten (H2O)
- Kvicksilver (Hg)
- Temperatur
- Syre (O2)
- THC/VOC
- Lista över gaskomponenter |
| |
Varför Opsis?
|
- In situ-mätning med hög prestanda
- Mätning av flera gaser över flera sträckor samtidigt är möjlig
- Påverkas inte av höga temperaturer eller höga koncentrationer av stoft
- Klarar korrosiva miljöer
- Kombinerar fördelarna med UV-, IR- och TDL-teknologierna
- Låga detektionsgränser
- Snabba svarstider
- Behöver endast ett minimum av underhåll
- Enkel att kalibrera
- Service utförs av ett välutbildat nätverk
- Internationellt godkända system
- Systemen godkända av bland annat tyska TÜV |
| |
Mjukvara
|
| Opsis erbjuder totallösningar med systempaket för databehandling, som inkluderar datainsamling, utvärdering och rapportering. Mjukvaran följer EU-direktiven för rapportering. Se vidare EnviMan datahanteringssystem. |
| |
Godkännanden
|
| Opsis mätsystem har godkänts av flera internationella institut, bland andra tyska TÜV och amerikanska EPA Fler godkännanden >> |
| |
Mer information
|
| Kontakta Opsis för att få det senaste informationsmaterialet inklusive referenser och nya EU-direktivet för avfallsförbränningsanläggningar. |
| |
 |